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砷化镓薄膜电池聚光技术

日期:2024-05-04 作者: 常見問題

  面积。相当于用比较便宜的普通金属、玻璃材料做成聚光器和支撑系统,来代替部分昂贵的砷化镓薄膜电池。在这种聚光系统中,如果聚光率超过10倍以上,则系统只能利用直射阳光,因而必须采用跟踪系统相互配合,才能充分发挥效能。在固定温度下,电池效率随聚光率变化的一般趋势是,在低聚光率时,电池效率随聚光率的增加而增加,在高聚光率时,则随聚光率的增加而降低。光伏电池在高聚光大电流下,其工作温度的升高将导致效率的下降,因此,聚光跟踪系统还需要配备有效的散热设备。考虑到系统的整体经济性,可以通过主动制冷方式,在对光伏电池快速散热的同时,充分利用热能生产热水,最终实现实现

  砷化镓(GaAs)半导体材料与传统的硅材料相比,它具有很高的电子迁移率、宽禁带、直接带隙,消耗功率低的特性,电子迁移率约为硅材料的5.7倍。因此,广泛应用于高频及无线通讯中制做IC器件。所制出的这种高频、高速、防辐射的高温器件,通常应用于激光器、无线通信、光纤通信、移动通信、GPS全球导航等领域。砷化镓除在I C产品应用以外,也可加入其它元素改变能带隙及其产生光电反应,达到所对应的光波波长,制作成光电元件。还可与太阳能结合制备砷化镓太阳能电池。

  作为通信、微电子以及光电子的基础材料GaAs材料,世界上其晶体生长技术和器件制作技术已较成熟,其应用领域不断扩大。其中,砷化镓在WiMAX和WLAN应用市场上,将有明显增幅,预计到2010年,市场需求近10亿美元,增长23%。在砷化镓太阳能电池上,也有部分要量产的企业。在砷化镓微波元件需求上,可望再倍增,用于蜂窝回程通信的GaAs芯片市场2007年达到了峰期。未来砷化镓发展势必将与Si、GaN以及SiGe一同参与市场竞争。

  砷化镓集成电路,用半导体砷化镓(GaAs)器件构成的集成电路。构成GaAs集成电路的器件主要有肖特基势垒栅场效应管、高电子迁移率晶体管和异质结双极晶体管。20世纪70年代初,由于高质量的GaAs外延材料和精细光刻工艺的突破,使GaAs集成电路的制作得到突破性进展。同硅材料相比,GaAs材料具备载流子迁移率高、衬底半绝缘以及禁带较宽等特征,因此用它制成的集成电路具有频率高、速度快、抗辐射能力强等优点。它的缺点是材料缺陷较多,集成规模受到限制,成本较高。GaAs集成电路可分为模拟集成电路如单片微波集成电路和数字集成电路两类。前者主要用于雷达、卫星电视广播、微波及毫米波通信等领域,后者主要用于超高速计算机及光纤通信等系统。