专利名称：一种高温低析出光学聚酯基膜及其制备方法 专利类型：发明专利 发明人：李明勇,梁雪芬 申请号：CN7.2 申请日：20161228 公开号：CN106585024 A 公开日：201704 26

  摘要：本发明公开了一种高温低析出光学聚酯基膜及其制备方法，该膜由ABA三层共挤出薄膜复 合构成，ABA三层的总厚度为23～250μm，每层A层的厚度为2～3.5μm；A层原料由65%～85%的 聚对苯二甲酸乙二醇酯和15%～35%的聚酯硅母料组成；B层原料由50%～85%的聚对苯二甲酸乙二 醇酯和15%～50%的纳米二氧化硅聚酯母料组成。该聚酯基膜的制备方法是：将原位生长法制备的纳 米二氧化硅聚酯母料、P ET 、特粘聚酯和普通硅母料，配成A层和B层原料，熔融后经A‑B‑A三层共挤 出，再经双向拉伸、热定型而制成。本发明聚酯基膜在150～180℃下具有阻止低分子物析出的功 能，特别适用作光学聚酯基膜。

  申请人：江苏东材新材料有限责任公司 地址：226600 江苏省南通市海安县城东镇开发大道路(中源自文库28号 国籍：CN 代理机构：成都蓉信三星专利事务所(普通合伙) 代理人：刘克勤 更多信息请下载全文后查看